高真空退火爐

儀器介紹：

華測儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?， 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線(xiàn)反射退火爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。能節省時(shí)間并提高實(shí)驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系，可靠。以提高試驗人員的工作效率，實(shí)現溫度控制操作！

設備原理：

1. 輻射加熱

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線(xiàn)反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

2. 紅外線(xiàn)燈

紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線(xiàn)反射面拋光，鍍金，反高光。同時(shí)配置水冷裝置。

3. 反射光

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線(xiàn)型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線(xiàn)型反射器和適用于片狀樣品。

設備特點(diǎn)

1. 高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時(shí)體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實(shí)現快速冷卻。

2. 溫度高精度控制

通過(guò)紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。

3. 清潔加熱

反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線(xiàn)型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個(gè)橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。

反射爐溫度控制裝置：

高速升溫時(shí)，配套的快速反應的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。 

設備結構：

 可選配置：

（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;

（2）全量程真空規：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10^-7Pa到1atm;

（3）為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度；

（4）根據設備上的溫度控制器輸入參數，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數據；

（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；

（6）可設定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序；

（7）30A、60A、120A內置了 SCR電路，所以范圍很廣。

更多應用：