產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質(zhì)的低應力氮化硅或氮氧化硅。
詳情介紹：
臥式低壓化學(xué)氣相沉積爐管
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
用于沉積高品質(zhì)的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質(zhì)的低應力氮化硅或氮氧化硅。
主要技術(shù)指標
爐管1：N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉積工藝
氣體：高純N2、SiH4、PH3
爐管2：低應力氮化硅，氮氧化硅薄膜
氣體：高純N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
溫度：700-900 °C
硅片尺寸：3英寸、4英寸、6英寸圓片；50片/爐
