產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無(wú)法實(shí)現溫度的高精/度測量，加熱區域也存在不均勻的現象，華測儀器研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現高jing度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱，設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

    它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，高溫快速爐/紅外鏡面反射爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。從各方面講，都節省時(shí)間并提高實(shí)驗速度。

    同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統**可靠。以提高試驗人員的工作效率，實(shí)現溫度控制操作！

反射鏡是具有高稍度曲率，采用5軸加工系統加工，以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線(xiàn)型的，它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測試。

產(chǎn)品優(yōu)勢

高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實(shí)現快速冷卻。

溫度高精/度控制
過(guò)紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以精/確控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精/度。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單支持遠程協(xié)助系統，使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室

用途：工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫燒結、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤(pán)預燒結等。根據加熱區大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。