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三電極法高溫介電溫譜測試儀產(chǎn)品介紹
日期：2024-09-04 20:51
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摘要：三電極法高溫介電溫譜測試儀采用雙屏蔽高頻測試線(xiàn)纜，提高測試參數的準確度，同時(shí)抗干擾能力更強。搭配Labview系統開(kāi)發(fā)的Huacepro軟件，具備彈性的自定義功能，可進(jìn)行介電溫譜、頻譜和升溫速度等設置，符合壓電陶瓷與其它新材料測試多樣化的需求。測試引線(xiàn)使用4端子對配置以擴展測量端口，附帶BNC陽(yáng)頭連接板，用于連接高溫爐的測試夾具。同時(shí)測試線(xiàn)采用高頻測試專(zhuān)用測試線(xiàn)，設計兩層屏蔽，更適合高頻介電參數測量。
三電極法高溫介電溫譜測試儀 產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品概述
溫度波動(dòng)小于±0.25℃，抗干擾性提高300倍高溫介電溫譜測試系統運用三電極法設計原理測量，重復性與穩定性更好。采用雙屏蔽高頻測試線(xiàn)纜，提高測試參數的準確度，同時(shí)抗干擾能力更強。搭配Labview系統開(kāi)發(fā)的Huacepro軟件，具備彈性的自定義功能，可進(jìn)行介電溫譜、頻譜、升溫速度、測量參數等設置，符合壓電陶瓷與其它新材料測試多樣化的需求。過(guò)壓、過(guò)電流、超溫等異常情況下以確保測試過(guò)程的**；資料保存機制，當遇到電腦異常瞬時(shí)斷電可將資料保存于控制器中，不丟失試驗數據，設備重新啟動(dòng)后可恢復原有試驗數據。
除去電網(wǎng)諧波對采集精度的影響
目前電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設備，將對電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過(guò)程中影響弱信號的采集精度，華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用新特殊參數分析技術(shù),實(shí)現了高達120MHz的高頻測量,從而滿(mǎn)足了很多半導體功能材料和納米器件的測試需求。
除去不規則輸入的自動(dòng)平均值功能，更強數據處理及內部屏蔽
三電極法高溫介電溫譜測試儀是華測儀器電子事業(yè)部采用當前***自動(dòng)平衡電橋原理研制成功的新一代阻抗測試儀器，為國產(chǎn)阻抗測試儀器的新高度。在測量10Hz-50MHz的頻率瓶頸；解決了國外同類(lèi)儀器只能分析、無(wú)法單獨測試的缺點(diǎn)；采用單測和分析兩種界面，讓測試更簡(jiǎn)單。得益于***自動(dòng)平衡電橋技術(shù)，在10Hz-50MHz的頻率范圍可以確保0.05%的基本精度?？爝_5ms的測試速度及高達50M的阻抗測試范圍可以滿(mǎn)足元件與材料的測量要求，特別有利于低損耗(D)電容器和高品質(zhì)因數(Q)電感器的測量。四端對的端口配置方式可有效除去測試線(xiàn)電磁耦合的影響，將低阻抗測試能力的下限比常規端配置的儀器向下擴展了十倍。
專(zhuān)用高頻測試線(xiàn)纜，更適合高頻測量
測試引線(xiàn)使用4端子對配置以擴展測量端口，附帶BNC陽(yáng)頭連接板，用于連接高溫爐的測試夾具，同時(shí)測試線(xiàn)采用高頻測試專(zhuān)用測試線(xiàn)，更適合高頻介電參數測量。
產(chǎn)品優(yōu)勢
目前國內高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，主要原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫過(guò)程速度慢，效率低。無(wú)法實(shí)現溫度的高精度測量，加熱區域也存在不均勻的現象。華測儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱及高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布?？蓪?shí)現寬域均熱區，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱試樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?，高純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。 它提高了加熱試驗能力。
同電阻爐和其他爐相比，紅外線(xiàn)反射爐節省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，在試驗中也可改寫(xiě)設定溫度值。從各方面講，都節省試驗時(shí)間并提高實(shí)驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統**可靠。以提高試驗人員的工作效率，實(shí)現溫度控制操作！
高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統，增設氣體冷卻裝置，可實(shí)現快速冷卻。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。
溫度高精度控制
近紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用，可以準確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
